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Noticias de la compañía

La deposición de películas Ito a baja temperatura por pulverización magnética es un método para preparar películas conductoras transparentes.

Time:2023-03-13Number:1326
La deposición de películas Ito a baja temperatura por pulverización magnética es un método para preparar películas conductoras transparentes. Entre ellos, Ito se refiere al óxido de indio de Estaño.

El método utiliza la tecnología de pulverización de magnetrón para salpicar átomos en el objetivo Ito (óxido de acero y estaño) sobre la superficie del sustrato para formar una película delgada. La deposición a baja temperatura se refiere a la deposición a temperaturas más bajas, generalmente a temperatura ambiente o ligeramente más altas.

El chorro de magnetrón es una tecnología de depósito físico de vapor que utiliza un campo magnético para controlar la trayectoria de los iones y puede preparar películas de alta calidad. En este método, los objetivos metálicos de indio y estaño se colocan en una cámara de vacío y se generan haces de iones de alta energía a través de descargas de arco o excitación de fuentes de energía de radiofrecuencia. Estos haces de iones golpean la superficie del objetivo, salpican el material del objetivo y lo depositan en la superficie del sustrato para formar una película delgada.

磁控溅射低温沉积ITO薄膜技术具有制备ITO薄膜的简单、高效、可控性强等优点



La tecnología consiste en el chorro de objetivos Ito mediante el uso de equipos de chorro de magnetrón, mientras que mediante el control de parámetros como temperatura, presión atmosférica, tipo de cuerpo y flujo, se pueden preparar películas Ito con las propiedades deseadas en el sustrato.

Entre ellos, la tecnología de deposición a baja temperatura es un nuevo método de preparación de películas ito, que utiliza principalmente una fuente de alimentación pulsada de alta potencia para aumentar rápidamente la temperatura del objetivo ito, logrando así la preparación de películas Ito a una temperatura de sustrato más baja. Este método puede evitar la influencia del calor en la sombra del sustrato, al tiempo que puede lograr un control preciso de la calidad y el rendimiento de la película.

Por lo tanto, la tecnología de deposición de películas Ito a baja temperatura por pulverización de magnetón tiene las ventajas de ser simple, eficiente y controlable para la preparación de películas ito, y es ampliamente utilizada en la fabricación de equipos eléctricos como pantallas táctiles y paneles lcd.
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