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Galvanoplastia al vacío de película Pi y galvanoplastia química de cobre
Las membranas Pi se utilizan ampliamente y se pueden aplicar en electrónica, electrodomésticos, automóviles y otros campos. La película Pi es un material polimérico de alto rendimiento, que tiene las ventajas de excelentes propiedades eléctricas, resistencia a altas temperaturas y radiación, buena estabilidad química y buena propiedades de aislamiento. En los últimos años, debido a los grandes avances en la tecnología de fabricación de materiales de poliimida, especialmente en la industria electrónica, se ha utilizado ampliamente, como en placas de circuito impreso (pcb). Las películas Pi también se pueden utilizar para fabricar películas ópticas, como películas holográficas antifalsificación y películas fotocrómicas. Hay dos métodos para el tratamiento de la superficie de la película pi, a saber, la galvanoplastia al vacío y la galvanoplastia química.
I. Introducción
Debido a Película PiLa superficie es muy lisa y sin poros, por lo que es difícil realizar la galvanoplastia al vacío. Si se quiere realizar la galvanoplastia al vacío, es necesario tratar la superficie de la película Pi en un ambiente al vacío. La galvanoplastia química es el tratamiento de la superficie de la película Pi utilizando principios químicos. El baño de chapado químico generalmente se compone de cromato, ácido aminosulfónico, etc.
II. procesos tecnológicos
Proceso de galvanoplastia al vacío de película pi: enrollar la película Pi en un rollo y colocarla en una mesa de trabajo con dispositivo de calentamiento. Calentar a 85 - 95 ° c con una barra redonda de 20 mm de diámetro y mantener esta temperatura durante 8 - 12 horas. Coloque la película Pi en la Cámara de vacío y bombearla al vacío a 120 - 125 ℃. Se introduce gas a una velocidad de 10 mm / MIN a través de un recipiente a alta presión. A continuación, la película se enrolla en forma cilíndrica y sus extremos se enredan y se pegan entre sí, y luego se envuelve en una placa metálica circular y se coloca en la Cámara de vacío. Coloque el rollo de película en un recipiente cerrado y caliente a 80 - 90 grados Celsius para que se endurezca rápidamente.
3. configuración y requisitos del equipo
1. galvanoplastia al vacío: incluye principalmente calderos de galvanoplastia al vacío, dispositivos de bombeo al vacío, fuentes de alimentación de alta tensión y sistemas de control de Operaciones de galvanoplastia.
2. galvanoplastia química: incluye principalmente reactores de chapado químico, tanques de chapado, dispositivos de rectificación, dispositivos de suministro de líquido de prepulverización de cobre, etc.
3. preparación de líquidos de cobre sin electrodomésticos: incluye principalmente materias primas y aditivos, como cobre, nitrato de plata (agno3). Entre ellos, la concentración de nitrato de plata (agno3) es del 1% al 2%, El valor de pH es de 5,0 a 7,0. La cantidad de solución necesaria es igual a la cantidad de cada dosis multiplicada por la cantidad añadida.
El tiempo de reacción general es de 8 a 10 minutos.
IV. control de la calidad de la galvanoplastia
Si se utiliza el método de galvanoplastia al vacío, se puede controlar directamente la deposición del metal en un recipiente sellado con un vacío de 10 - 30 PA. Esto permite que la superficie del recubrimiento sea altamente lisa sin necesidad de controlar la rugosidad de la superficie cambiando la composición del líquido de recubrimiento. Sin embargo, si se utiliza el método de galvanoplastia química, es necesario controlar la profundidad de la deposición del metal en el baño mediante los siguientes pasos:
1. primero, retire las impurezas de la superficie de la película antes de la galvanoplastia, y luego utilice el proceso de galvanoplastia de cobre sin electrodomésticos para la galvanoplastia.
2. durante el proceso de galvanoplastia, se debe ajustar adecuadamente la proporción de varios aditivos en el baño para obtener un recubrimiento más grueso y uniforme.
3. finalmente, se debe realizar un tratamiento superficial para eliminar las impurezas y convertir la superficie de la película en una capa metálica más delgada.
4. para la galvanoplastia al vacío y la galvanoplastia química, es mejor convertir entre los dos métodos. Porque para la galvanoplastia química, debido a que el proceso de galvanoplastia química de cobre a menudo tarda más en depositar el metal.
V. alcance de la aplicación
1. para automóviles como material aislante para automóviles;
2. en la industria electrónica, se puede utilizar como pcb, en el proceso de producción, como material aislante;
3. para interruptores ópticos, se puede utilizar como material de conversión fotoeléctrica;
4. en la industria del embalaje, se utiliza como material de sellado térmico, etc.
Además, la película de poliimida también se puede utilizar para producir interruptores de película. Este interruptor de película delgada tiene las ventajas de resistencia a los rayos ultravioleta, resistencia a altas temperaturas y baja pérdida, y se puede aplicar en automóviles, electrodomésticos, aeroespacial y otros campos. Este interruptor de película delgada puede reducir el ruido y prevenir los efectos de la radiación electromagnética.
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